Chemical Vapor Deposition
| 短名 | Chem. Vap. Depos. |
| ISSN | 0948-1907, 1521-3862 |
《Chemical Vapor Deposition》期刊发表关于化学气相沉积及相关技术的综述、短篇通讯和完整论文，同时也包括意见、新闻、会议信息和书评等其他文章。所有论文均经过同行评审。该期刊为化学家、物理学家和工程师提供了一个统一的平台，以便他们在化学气相沉积领域的研究成果能够集中展示，过去这些成果往往分散在涵盖无机化学、材料化学、有机金属化学、应用物理、半导体技术、薄膜和陶瓷加工等领域的期刊中。
期刊主页| 涉及主题 | 材料科学化学纳米技术工程类物理有机化学化学工程量子力学生物复合材料地质学冶金光电子学古生物学地貌学薄膜沉积（地质）构造盆地沉积物图层（电子）化学气相沉积环境化学色谱法光学计算机科学无机化学分析化学（期刊）生物化学热力学 |
| 出版信息 | 出版商: Wiley-VCH Verlag，出版周期: Bimonthly，期刊类型: journal，开源期刊: 否 |
| 基本数据 | 创刊年份: 1995，原创研究文献占比: 0.00%，自引率:N.A.， Gold OA占比: 0.00% |
| 平均审稿周期 | 网友分享经验：>12周，或约稿 |
| 平均录用比例 | 网友分享经验：容易 |
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