Journal De Physique, III
短名 | J. Phys. III France |
ISSN | 1155-4320, 1286-4897 |
出版信息 | 出版商: Les Editions de Physique,出版周期: ,期刊类型: journal,开源期刊: 否 |
基本数据 | 创刊年份: 1994,原创研究文献占比: ,自引率:, Gold OA占比: |
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Hydrodynamic and Chemical Modeling of a Chemical Vapor Deposition Reactor for Zirconia Deposition
氧化锆沉积化学气相沉积反应器的水动力学和化学建模
1997-9-1
Étude par microscopie acoustique de couches minces de Ag2S déposées par spray
喷雾沉积Ag2S薄膜的声学显微镜研究
1997-9-1
Prise en compte de l'anisotropie des collisions ion-atome sur le transport des ions par simulation de Monte-Carlo
考虑离子-原子碰撞各向异性对离子输运影响的蒙特卡罗模拟
1997-9-1
Temperature Measurement in Laminar Free Convection Using Electro-Optic Holography
使用电光全息术测量层流自由对流中的温度
1997-9-1
Modélisation 3D des perturbations géomagnétiques induites. Validation du modèle éléments finis
三维地磁扰动建模。有限元模型的验证
1997-9-1
Méthodes de type éléments finis pour le calcul des champs électriques et magnétiques en électroencéphalographie et magnétoencéphalographie
有限元法在脑电图和脑磁图电场和磁场计算中的应用
1997-12-1
Dislocation and Grain Boundary Energies in Si and Ge from an Anharmonic Bond Charge Model
从非谐波键电荷模型看硅和锗中的位错与晶界能量
1997-12-1
TEM Imaging of Dislocation Kinks, their Motion and Pinning
透射电子显微镜成像中的位错扭折、其运动与钉扎
1997-12-1
Strain Measurements in Thin Film Structures by Convergent Beam Electron Diffraction
薄膜结构中的应变测量:会聚束电子衍射法
1997-12-1
Thermal Behaviour of Deep Levels at Dislocations in n-Type Silicon
n型硅中位错深能级的热行为
1997-12-1